| 专业名称：光学工程[080300] | |
|---|---|
| 招生人数 | |
| 研究方向 | 01.光信息技术与应用 02.量子信息及光量子器件 03.液晶物理与器件 |
| 考试科目 | ① 101思想政治理论 ② 201英语一或202俄语或203日语 ③ 301数学一 ④ 809大学物理 |
| 备注 | |
| 专业名称：光电材料科学与技术[0803Z1] | |
|---|---|
| 招生人数 | |
| 研究方向 | 01.新型宽禁带半导体光电材料与器件 02.磁、光、电功能材料与器件 |
| 考试科目 | ① 101思想政治理论 ② 201英语一或202俄语或203日语 ③ 301数学一 ④ 809大学物理 |
| 备注 | |
| 专业名称：物理电子学[080901] | |
|---|---|
| 招生人数 | |
| 研究方向 | 01.激光光谱技术与应用 02.激光器件与光电探测技术 03.表面科学与分析技术 |
| 考试科目 | ① 101思想政治理论 ② 201英语一或202俄语或203日语 ③ 301数学一 ④ 809大学物理 |
| 备注 | |
| 专业名称：优化理论与过程控制[0811J1] | |
|---|---|
| 招生人数 | |
| 研究方向 | 01.最优化理论与算法 02.流程工业过程优化与控制 03.复杂系统在线控制与过程优化 |
| 考试科目 | ① 101思想政治理论 ② 201英语一 ③ 301数学一 ④ 811自动控制原理或827运筹学三 |
| 备注 | |
| 招生年份 | 专业代码 | 专业名称 | 政治/科目一 | 外语/科目二 | 科目三 | 科目四 | 总分 |
| 2012 | 080300 | 光学工程 | 35 | 35 | 53 | 53 | |
| 2013 | 080300 | 光学工程 | 40 | 40 | 60 | 60 | |
| 2014 | 080300 | 光学工程 | 38 | 38 | 57 | 57 | |
| 2015 | 080300 | 光学工程 | 38 | 38 | 57 | 57 | |
| 2020 | 080300 | 光学工程 | 37 | 37 | 56 | 56 | 290 |
| 2016 | 080300 | 光学工程 | 36 | 36 | 54 | 54 | |
| 2013 | 0803Z1 | 光电材料科学与技术 | 40 | 40 | 60 | 60 | |
| 2014 | 0803Z1 | 光电材料科学与技术 | 38 | 38 | 57 | 57 | |
| 2015 | 0803Z1 | 光电材料科学与技术 | 38 | 38 | 57 | 57 | |
| 2016 | 0803Z1 | 光电材料科学与技术 | 36 | 36 | 54 | 54 | |
| 2011 | 080901 | 物理电子学 | 38 | 38 | 57 | 57 | |
| 2012 | 080901 | 物理电子学 | 35 | 35 | 53 | 53 | |
| 2013 | 080901 | 物理电子学 | 40 | 40 | 60 | 60 | |
| 2014 | 080901 | 物理电子学 | 38 | 38 | 57 | 57 | |
| 2015 | 080901 | 物理电子学 | 38 | 38 | 57 | 57 | |
| 2016 | 080901 | 物理电子学 | 36 | 36 | 54 | 54 | |
| 2013 | 0811J1 | 优化理论与过程控制 | 40 | 40 | 60 | 60 | |
| 2014 | 0811J1 | 优化理论与过程控制 | 38 | 38 | 57 | 57 | |
| 2015 | 0811J1 | 优化理论与过程控制 | 38 | 38 | 57 | 57 | |
| 2016 | 0811J1 | 优化理论与过程控制 | 36 | 36 | 54 | 54 |
在职、在校,报考条件各不同(MBA/MPA/MTA/MEM/MLIS/MAud/MPAcc)管理类,报考流程基础差难度大，线上辅导全阶段、不...